蔡司ZEISS 聚焦離子束電鏡Crossbeam系列

產(chǎn)品簡介
蔡司ZEISS 聚焦離子束電鏡Crossbeam系列無論是切割、成像或進行 3D 分析，Crossbeam 系列都能極大地提升您的應(yīng)用體驗。使用 Gemini 電子光學(xué)系統(tǒng)，您可以從掃描電子顯微鏡（SEM）圖像中獲取真實的樣品信息。Ion-sculptor FIB 鏡筒引入了全新的 FIB 加工方法，能夠減少樣品損傷，提升樣品質(zhì)量，從而加快實驗進程。

產(chǎn)品型號：Crossbeam350

更新時間：2025-05-15

廠商性質(zhì)：代理商

訪問量：280

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產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

通用測試儀器

日本電子JEOL 蔡司ZEISS 活圖隆Photron

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品牌	ZEISS/蔡司

蔡司ZEISS 聚焦離子束電鏡Crossbeam系列詳細說明：

蔡司ZEISS 聚焦離子束電鏡Crossbeam系列

蔡司ZEISS 聚焦離子束電鏡Crossbeam系列探索全新的 FIB 加工方法--從大尺寸到納米精度切割：

充分利用 lon-sculptor FIB 鏡筒在低電壓下的出色性能來提升樣品質(zhì)量。降低精密樣品的非晶化程度，可在減薄拋光后獲得出色的樣品效果，同時具有快速切換束流的優(yōu)勢，加速 FIB 的應(yīng)用。

您也可以選擇出色的大束流性能，使 FIB-SEM 3D 應(yīng)用的采集速度提高一倍。圖像采集的過程十分穩(wěn)定確保您獲得準(zhǔn)確且高度可重復(fù)的結(jié)果。鏡筒設(shè)計使其束流范圍橫跨五個數(shù)量級，即從1pA 到 100 nA。高達 100 nA 的束流能快速準(zhǔn)確地移除材料，并完成切割流程同時，低束流下可獲得小于3nm 的高 FIB分辨率。在2 μA 的發(fā)射電流下工作時，鎵聚焦離子束源，即 LMIS(液態(tài)金屬離子源)的常規(guī)使用壽命高于 3000 uAh。通過自動離子源加熱功能，Crossbeam 系列產(chǎn)品能夠完成超長持續(xù)時間的實驗。

上一個：Sigma300蔡司ZEISS場發(fā)射掃描電鏡Sigma系列